UV・EB硬化技術〈4〉 普及版 (CMCテクニカルライブラリー) [単行本]

UV・EB硬化技術〈4〉 普及版 (CMCテクニカルライブラリー) の 商品概要

• 目次（「BOOK」データベースより）

  第１章　総論
  第２章　材料開発の動向（アクリル系モノマー・オリゴマー；非アクリル系モノマー・オリゴマーおよびポリマー；光開始剤）
  第３章　硬化装置及び加工技術の動向（ＵＶ硬化装置の動向と加工技術；ＥＢ硬化装置の動向と加工技術；レーザーと加工技術）
  第４章　応用技術の動向（缶コーティング；粘接着剤；ＵＶ硬化型離型コーティング；印刷関連材料；フレキソ製版材料；フラットパネルディスプレイ；ホログラム；半導体用レジスト；プリント配旋板用レジスト；光ディスク；光ファイバ；光造形；光学材料；フィルムの表面加工；有機／無機ハイブリッド系ハードコート材；粉体ＵＶ硬化塗料；建材）

• 著者紹介（「BOOK著者紹介情報」より）（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）

  市村 國宏(イチムラ クニヒロ)
  （現）東邦大学理学部特任教授

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