液浸リソグラフィのプロセスと材料 普及版 (エレクトロニクスシリーズ) [単行本]

液浸リソグラフィのプロセスと材料 普及版 (エレクトロニクスシリーズ) の 商品概要

• 目次（「BOOK」データベースより）

  液浸リソグラフィーとは
  液浸露光用塗布現像装置
  レチクル技術
  液浸リソグラフィの光学系
  液浸露光装置の開発
  液浸用レジストの開発
  液浸用トップコート材料
  液浸レジスト材料の評価
  含フッ素樹脂のリソグラフィ分野への応用
  偏光照明技術
  高ＮＡ投影レンズの開発
  次世代液浸露光用高屈折率液体の開発
  次世代液浸リソグラフィの光学系
  ３２ｎｍハーフピッチに向けた今後のリソグラフィ展開

• 著者紹介（「BOOK著者紹介情報」より）（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）

  東木 達彦(ヒガシキ タツヒコ)
  （株）東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第二部リソグラフィ技術開発第三担当グループ長

液浸リソグラフィのプロセスと材料 普及版 (エレクトロニクスシリーズ) の商品スペック