薄膜の基本技術 第3版 [単行本]

薄膜の基本技術 第3版 [単行本] の 商品概要

• 目次(「BOOK」データベースより）

  １　真空装置の基本（真空の必要性
  基本的構成　ほか）
  ２　真空蒸着法（真空蒸着と基板
  気体に関する基本的な法則と公式　ほか）
  ３　スパッタリング法（放電とプラズマ
  放電プラズマの基礎　ほか）
  ４　膜厚測定法（膜厚とは：その多様性
  膜厚の分類　ほか）
  ５　関連技術（ガラスその他の基板洗浄
  電気抵抗測定　ほか）

• 著者紹介（「BOOK著者紹介情報」より）（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）

  金原 粲(キンバラ アキラ)
  １９３３年静岡市に生れる。１９５６年東京大学理学部物理学科卒業。１９６２年東京大学大学院数物系研究科修了。工学博士。東京大学工学部教授（物理工学科）を経て、１９９４年東京大学名誉教授、金沢工業大学教授。２００４年東京大学先端科学技術研究センター研究員。２００７年東京大学生産技術研究所共同研究員

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