半導体真空技術―ポイント解説 [単行本]

半導体真空技術―ポイント解説 [単行本] の 商品概要

• 目次

  Ⅰ　基礎編
  　第1章　半導体製造装置と真空
  　　1　装置システム構成
  　　2　なぜ真空が使われるのか
  　　3　半導体での真空応用例
  　第2章　真空の理論と計算
  　　1　まずはトリチェリの実験から
  　　2　単位の話－PaとTorr，mbar
  　　3　真空理論の初歩
  　　4　真空の計算－P，S，Q
  　第3章　真空ポンプとその使い方
  　　1　真空ポンプとは
  　　2　各種ポンプの原理と構造
  　第4章　真空ゲージとその使い方
  　　1　真空ゲージとは
  　　2　各種真空ゲージの原理と構造
  　　3　使用上の注意
  　第5章　ガスシステム・真空部品とその使い方
  　　1　真空シール，ガスケット，O-Ring
  　　2　フランジ・配管
  　　3　運動伝達部品
  　　4　バルブ・圧力調整機
  　　5　マスフローコントローラ
  　　6　配管継手類
  　　7　フィルタ
  　　8　フィードスルー
  　第6章　リーク探し
  　　1　リークの検出
  　　2　ヘリウムリークディテクタの原理と使用法
  　　3　その他のリークチェック法
  　第7章　真空装置の取り扱い
  Ⅱ　応用編
  　第8章　サーマル装置とプロセス
  　　1　熱酸化膜成長
  　　2　アニールと不純物活性化
  　　3　低温化の問題
  　第9章　プラズマ装置とプロセス
  　　1　プラズマ放電
  　　2　プラズマ応用装置のカップリングによる分類
  　　3　ECR
  　　4　シース
  　第10章　PVD装置とプロセス
  　　1　PVD装置の働き
  　　2　クラスタツール
  　　3　PVDプロセス
  　　4　PVD薄膜構造
  　　5　薄膜の評価
  　第11章　CVD装置とプロセス
  　　1　CVDとは
  　　2　プラズマCVD
  　　3　薄膜の評価
  　　4　HDP CVD
  　第12章　エッチング装置とプロセス
  　　1　エッチング装置の働き
  　　2　エッチングガス
  　　3　エッチング作用の種類
  　　4　形状制御
  　　5　問題点
  　第13章　インプランテーション装置とプロセス
  　　1　インプランテーション装置の働き
  　　2　イオンの選択
  　　3　イオンの打ち込み
  　　4　熱工程
  　　5　インプランテーション装置の種類
  　　6　問題点
  　第14章　プロセス管理・検査測定装置
  　　1　パーティクルインサイチューモニタ
  　　2　RGA
  参考文献
  索引
  

• 出版社からのコメント

  半導体産業に焦点をあて、そこにおける真空技術についてまとめた。理論的、体系的に半導体に関わる真空技術を解説。

• 内容紹介

  真空技術はあらゆる産業を支える基礎技術の一つであり、食品産業から宇宙産業に至るまでその恩恵に与っている、本書では半導体産業に焦点をあて、そこで使われている真空技術についてまとめた。できるだけ数式を使わずに理論的、体系的に半導体に関わる真空技術を解説。

• 著者紹介（「BOOK著者紹介情報」より）（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）

  宇津木 勝(ウツギ マサル)
  茨城県生まれ。１９８１年日本テキサスインスツルメンツ（株）入社。美浦工場生産技術部を経てＵＬＳＩ技術開発部へ。ＵＳダラス本社プロセスオートメーションセンターにて装置プロセス開発に従事。美浦工場にて装置開発に従事後プロセス担当。ＤＲＡＭ・ロジックデバイスの開発に従事。専門はメタリゼーション・インテグレーションエンジニアリング。１９９６年アプライドマテリアルズジャパン（株）入社、成田テクノロジーセンター勤務。カスタマーサポートおよび社内外の技術教育に従事

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