自己組織化プロセス技術(アドバンストエレクトロニクスシリーズ〈1-20〉) [全集叢書]
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自己組織化プロセス技術(アドバンストエレクトロニクスシリーズ〈1-20〉) [全集叢書]

村田 好正(共編)尾関 雅志(共編)野崎 真次(共編)
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出版社:培風館
販売開始日: 1999/07/08
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自己組織化プロセス技術(アドバンストエレクトロニクスシリーズ〈1-20〉) の 商品概要

  • 要旨(「BOOK」データベースより)

    材料構成原子が自然に原子間の相互作用により特定の極微構造を形成する、いわゆる「自己組織化」現象の利用が注目されている。この現象は量子細線や量子ドットなどのナノ構造の形成に応用され、次世代のプロセス技術のひとつとして研究開発が著しい。本書は、このような自己組織化プロセス技術について、わが国の本分野の第一線の研究者らが解説した初の成書である。自己組織化現象のメカニズムと極微構造制御技術、STMなどによる構造評価技術、計算物理による理論とシミュレーションなどの基本事項から、SiやGe、化合物半導体らのナノ構造作製技術への応用まで、網羅的に解説している。
  • 目次(「BOOK」データベースより)

    第1編 基礎編(量子ドットの電子状態とデバイスへの展開の基礎
    Si、GaN量子ドットの自己形成と光学的特性
    水素化Si(100)でのSiアドアトムの吸着と拡散 ほか)
    第2編 Si、Geの自己組織化技術(吸着Si表面における自己組織化とナノ構造形成
    Si表面の自己組織化とその集積化
    Si(001)に出現する縞状の原子ステップ構造 ほか)
    第3編 化合物半導体の自己組織化技術(自己集合ならびに自己組織化による半導体ナノ構造形成
    GaAs薄膜成長過程での自己組織化
    GaAs(111)A、(110)基板上のInAs成長 ほか)

自己組織化プロセス技術(アドバンストエレクトロニクスシリーズ〈1-20〉) の商品スペック

商品仕様
出版社名:培風館
著者名:村田 好正(共編)/尾関 雅志(共編)/野崎 真次(共編)
発行年月日:1999/07/06
ISBN-10:456303620X
ISBN-13:9784563036201
判型:A5
対象:専門
発行形態:全集叢書
内容:電子通信
ページ数:307ページ
縦:22cm
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