X線分析の進歩 25-X線工業分析 29 [単行本]

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X線分析の進歩 25-X線工業分析 29 [単行本]

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出版社:アグネ技術センター
販売開始日: 1999/07/01
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X線分析の進歩 25-X線工業分析 29 [単行本] の 商品概要

  • 目次

    Ⅰ. X線分光分析
      1. イメージング・プレート発光X線分光器による鉄化合物のK X線測定 [ノート]
       (河合 潤・前田邦子)

      2. 鉄,コバルト化合物におけるK X線のスペクトル変化 [報文]
       (玉木洋一)

      3. アンジュレータ光を用いたホウ素化合物の選択励起B Kα発光スペクトル [ノート]
       (村松康司・尾嶋正治・河合 潤・加藤博雄)

      4. X線分光法による微量成分分析の妨害線:放射的オージェサテライト [報文]
       (前田邦子・河合 潤)

    Ⅱ. X線回折
      5. デバイ写真における結晶粒度と格子面間隔測定精度の関係 [報文]
       (藤井信之・小崎 茂)

      6. イメージングプレート検出器を用いた迅速液体・アモルファスX線回折装置の製作と性能評価 [報文]
       (伊原幹人・山口敏男・脇田久伸・松本知之)

      7. X線光学系のXRDパターンへの依存性―集中法と平行法との比較― [報文]
       (横川忠晴・大野勝美)

      8. 大気環境汚染物質の炭素鋼板腐食に及ぼす影響:X線による評価 [技術報告]
       (田村久恵・桑野三郎・久米一成・宇井倬二)

      9. 粉末回折法による8-アミノカプリル酸の構造解析
       (エルンスト ホルン・倉橋正保)

      10. パーマロイ合金表面自然酸化層の膜厚測定と構造解析 [報文]
       (山本恭之・千原 宏・横山雄一・内田信也)

      11. ゼオライトAのカチオンサイトの熱処理法依存性 [報文]
       (加藤正直・守屋英朗・大串達夫)

    Ⅲ. EXAFS
      12. アモルファス窒化ケイ素化合物のXAFS測定 [報文]
       (梅咲則正・上條長生・田中 功・新原晧一・八田厚子・谷口一雄)

      13. Cu K EXAFS, O K放射スペクトルによるCu2Oの酸化状態解析 [報文]
       (元山宗之・上月秀徳・石原マリ)

      14. XAFSによる炭化ケイ素・窒化ケイ素薄膜の構造解析 [報文]
       (今村元泰・島田広道・松林信行・葭村雄二・佐藤利夫・西嶋昭生)

      15. 放射光を用いたオージェ電子収量法によるXAFS測定―状態別分析および元素選択性の応用― [報文]
       (松林信行・島田広道・今村元泰・葭村雄二・佐藤利夫・西嶋昭生)

      16. in situ電気化学セルを用いた蛍光XAFS法とその応用 [報文]
       (山口敏男・光永俊之・吉田暢生・脇田久伸・藤原 学・松下隆之・池田重良・野村昌治)

    Ⅳ. 蛍光X線分析
      17. 蛍光X線分析法による半導体薄膜の膜厚・組成分析 [報文]
       (河野久征・小林 寛)

      18. 蛍光X線膜厚計へのFP法の適用 [報文]
       (田村浩一・佐藤正雄・一宮 豊・高橋正則)

      19. 蛍光X線法によるⅣ族炭化物,窒化物および硼化物中の含有不純物の定量 [報文]
       (金子啓二・平林正之・熊代幸伸・伊原英雄)

    Ⅴ. 全反射蛍光X線分析
      20. 全反射蛍光X線分析用高感度X線分光器 [報文]
       (宇高 忠・迫 幸雄・河野 浩・庄司 孝・清水和明・宮崎邦浩・嶋崎綾子)

      21. 単色X線励起全反射蛍光X線分析における見かけ上の不純物ピークと発生原因 [報文]
       (薬師寺健次・大川真司・吉永 敦・原田仁平)

      22. 微小角入射微細X線による多層薄膜の分析 [技術報告]
       (武田叡彦・乗松哲夫・吉田敏明)

      23. クリーンルーム内環境評価への全反射蛍光X線分析法の応用 [ノート]
       (大杉哲也・京藤倫久)

      24. 全反射蛍光X線分析による酸化膜中および界面の重金属評価 [報文]
       (杉原康平・畑 良文・藤井眞治・原田好員)

      25. 全反射蛍光X線分析法による急性ヒ素中毒マウス組織中の微量ヒ素の定量 [報文]
       (中井 泉・守口正生・鈴木 拓・河嶌拓治・下條信弘)

    Ⅵ. EPMA
      26. EPMAによる花崗岩質岩石中の鉱物の化学分析 [報文]
       (平岡義博)

      27. EPMAにおける状態分析への波形分離法の応用 [報文]
       (高橋秀之・奥村豊彦・瀬尾芳弘)

      28. EPMAによるSi系セラミック摺動材の状態分析 [報文]
       (今田康夫)

    Ⅶ. XPS
      29. 低速アルゴン中性粒子エッチング法のXPSへの応用 [報文]
       (飯島善時・松本成夫・山田貴久・平岡賢三)

      30. Hartree-Fock-Slater法を用いた非化学量論比組成CuInSe2の電子状態解析 [報文]
       (古曵重美・坂井全弘・和田隆博・瀬恒謙太郎・八田真一郎)

      31. 種々のドナーセットを有する銅(Ⅱ)錯体のX線光電子スペクトルによる解析 [報文]
       (藤原 学・松下隆之・池田重良)

      32. 構造の異なるニッケル(Ⅱ)錯体のX線光電子スペクトルにおけるサテライトピークと電子配置との関係 [報文]
       (藤原 学・繁実章夫・松下隆之・池田重良)

      33. X線光電子分光測定中ヘキサシアノ金属塩の固溶体中鉄(Ⅲ),マンガン(Ⅲ)の還元速度 [報文]
       (奥 正興)

      34. ポリマーパウダー表面のXPSによる解析 [報文]
       (福島 整・丸山達哉・山田宏一・高橋栄美)

      35. XPSによるシリコーンセパレータ表面の解析 [ノート]
       (野口直也)

      36. 高性能光電子分光装置ESCA-300の特長を利用した応用例 [技術報告]
       (佐々木澄夫)

    Ⅷ. その他
      37. X線励起電流測定による大気中での表面分析 [報文]
       (早川慎二郎・鈴木説男・河合 潤・合志陽一)

      38. STM/AFMによるイオンエッチング表面の粗さ評価と深さ方向分解能 [報文]
       (小島勇夫・藤本俊幸)

      39. Csl蛍光膜の作製と顕微断層撮影への応用 [報文]
       (山内 泰・岸本直樹)

    Ⅸ. 既掲載X線粉末回折図形索引

    Ⅹ. 1992年X線分析のあゆみ
      1. X線分析関係文献集
      2. X線分析関係国内講演会開催状況
      3. X線分析研究懇談会講演会開催状況
      4. X線分析研究懇談会規約
      5. 「X線分析の進歩」投稿の手引き
      6. (社)日本分析化学会X線分析研究懇談会1994年度幹事名簿
      7. 「X線粉末回折図形集」の収集にご協力のお願い

    ⅩⅠ. X線分析関係機器資料

    ⅩⅡ. 既刊総目次

    ⅩⅢ. X線分析の進歩25 索引
  • 内容紹介

    本書は昭和39年(1964年)に『X線工業分析』として発刊され、第5集から『X線分析の進歩』として毎年刊行されているものである。内容は、解説と報文、その年度におけるX線分析関係の論文・行事の紹介、機器についての資料集など。わが国における業界の年鑑といえるものである。

X線分析の進歩 25-X線工業分析 29 [単行本] の商品スペック

商品仕様
出版社名:アグネ技術センター
著者名:日本分析化学会X線分析研究懇談会(編集)
発行年月日:1999/07
ISBN-10:4900041262
ISBN-13:9784900041264
判型:B5
対象:専門
発行形態:単行本
内容:化学
言語:日本語
ページ数:463ページ
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