フォトレジスト材料開発の新展開(エレクトロニクスシリーズ) [単行本]
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フォトレジスト材料開発の新展開(エレクトロニクスシリーズ) [単行本]
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フォトレジスト材料開発の新展開(エレクトロニクスシリーズ) [単行本]

上田 充(監修)
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出版社：シーエムシー出版
販売開始日： 2009/08/12
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フォトレジスト材料開発の新展開(エレクトロニクスシリーズ) の 商品概要

  • 目次(「BOOK」データベースより）

    リソグラフィ技術の概要
    光化学反応の基礎
    光酸発生剤
    従来型フォトレジスト―ｇ，ｉ線ノボラック系レジストを中心にして
    ＫｒＦレジスト
    ＡｒＦレジスト
    ＡｒＦ液浸用レジスト
    ダブルパターニング用材料
    ＥＵＶレジスト
    電子線レジスト
    分子レジスト
    反射防止材料
    ＵＶナノインプリント用材料
    ブロック共重合体リソグラフィ

  • 著者紹介（「BOOK著者紹介情報」より）（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）

    上田 充(ウエダ ミツル)
    東京工業大学大学院理工学研究科有機・高分子物質専攻教授

フォトレジスト材料開発の新展開(エレクトロニクスシリーズ) の商品スペック

商品仕様
出版社名：シーエムシー出版
著者名：上田 充（監修）
発行年月日：2009/08/12
ISBN-10：4781301495
ISBN-13：9784781301495
判型：規大
対象：専門
発行形態：単行本
内容：化学
ページ数：317ページ
縦：27cm
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