はじめての半導体洗浄技術(ビギナーズブックス〈23〉) [単行本]

はじめての半導体洗浄技術(ビギナーズブックス〈23〉) の 商品概要

• 要旨（「BOOK」データベースより）

  超ＬＳＩはクリーンネスとの闘いである。どんなにすぐれた設計・プロセス技術を用いても、プロセス、環境面でのクリーン化技術に問題点があるようでは期待通りの超ＬＳＩは生まれない。その技術の一つに洗浄技術がある。本書では半導体洗浄技術の全貌について、技術の位置づけ、歴史、基礎的事項、具体的手法、評価法、今後の展望までを詳細に解説している。

• 目次（「BOOK」データベースより）

  第１章　シリコン集積回路と洗浄技術の概略史
  第２章　ウェハ上の汚染物および表面状態がデバイスへ及ぼす影響
  第３章　従来の洗浄技術―ＲＣＡ洗浄法を中心に
  第４章　ウェハ表面への汚染物の付着およびその洗浄機構
  第５章　新しい洗浄法―脱ＲＣＡ洗浄を目指して
  第６章　ウェット洗浄装置
  第７章　ドライ洗浄法
  第８章　ウェハ表面の汚染物の評価方法
  第９章　洗浄技術の課題と今後の展望

• 著者紹介（「BOOK著者紹介情報」より）（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）

  堀池 靖浩(ホリイケ ヤスヒロ)
  １９６８年早稲田大学大学院理工学研究科応用物理学専攻修士課程終了。１９６８年（株）東芝入社。総合研究所電子部品研究所、集積回路研究所、超ＬＳＩ研究所にて、ＬＳＩプロセス、リソグラフィなど微細加工技術の研究に従事。工学博士。１９８８年広島大学工学部教授。１９９４年東洋大学工学部教授。１９９８年東京大学大学院工学研究科材料学専攻、教授に就任し、現在に至る
  
  小川 洋輝(オガワ ヒロキ)
  １９９２年武蔵工業大学大学院工学研究科電気工学専攻修士課程修了。１９９２年～１９９８年富士通（株）勤務、半導体プロセス開発に従事。１９９７年工学博士。１９９８年～２００１年日本学術振興会未来開拓事業に関わる研究員。２００１年東京大学大学院工学系研究科材料学専攻研究員。２００１年科学技術振興事業団「ヘルスケアチップ」プロジェクト研究員、現在に至る

はじめての半導体洗浄技術(ビギナーズブックス〈23〉) の商品スペック