触媒CVD(Cat-CVD)の新展開―ラジカルを用いる新プロセス技術 普及版 (エレクトロニクスシリーズ) [単行本]
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触媒CVD(Cat-CVD)の新展開―ラジカルを用いる新プロセス技術 普及版 (エレクトロニクスシリーズ) [単行本]

中山 弘(監修)
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出版社:シーエムシー出版
販売開始日: 2013/11/30
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触媒CVD(Cat-CVD)の新展開―ラジカルを用いる新プロセス技術 普及版 (エレクトロニクスシリーズ) の 商品概要

  • 目次(「BOOK」データベースより)

    総論 Cat‐CVD法の誕生、期待とその課題(Cat‐CVD法の誕生
    Cat‐CVD膜の特徴 ほか)
    第1章 基礎編(低温成膜の物理とCat‐CVD―フィラメント表面での化学反応の評価
    気相中のラジカル種の定量 ほか)
    第2章 Cat‐CVD装置(大型Cat‐CVD装置
    簡易型Cat‐CVD装置 ほか)
    第3章 応用編(SiN―LSIトランジスターへの応用
    レジストエッチング―水素ラジカルによるレジスト除去 ほか)
    第4章 材料各論(アモルファスおよび微結晶Si
    エピタキシャルSiC ほか)

触媒CVD(Cat-CVD)の新展開―ラジカルを用いる新プロセス技術 普及版 (エレクトロニクスシリーズ) の商品スペック

商品仕様
出版社名:シーエムシー出版
著者名:中山 弘(監修)
発行年月日:2013/11/07
ISBN-10:478130740X
ISBN-13:9784781307404
判型:B5
対象:専門
発行形態:単行本
内容:電気
ページ数:276ページ
縦:26cm
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