超並列電子ビーム描画装置の開発―集積回路のディジタルファブリケーションを目指して [単行本]

超並列電子ビーム描画装置の開発―集積回路のディジタルファブリケーションを目指して の 商品概要

• 目次（「BOOK」データベースより）

  第１章　マスクレス露光と電子ビーム描画・転写（マスクレス露光（描画）
  各種電子ビーム描画・転写）
  第２章　並列電子ビーム描画の課題（電子ビーム制御
  電子ビームの集束と電子レンズ　ほか）
  第３章　並列電子ビーム描画装置用電子源（研究されてきた各種電子源
  ナノクリスタルシリコン（ｎｃ‐Ｓｉ）電子源）
  第４章　超並列電子ビーム描画（ＭＰＥＢＷ）（システム構成
  電子源アレイ　ほか）
  第５章　応用と今後の課題（デバイス大量生産への応用
  マルチビーム技術の直接描画への応用　ほか）

• 著者紹介（「BOOK著者紹介情報」より）（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）

  江刺 正喜(エサシ マサヨシ)
  １９７１年東北大学工学部電子工学科卒。１９７６年同大学院博士課程修了。同年より東北大学工学部助手、１９８１年助教授、１９９０年より教授となり現在（東北大学マイクロシステム融合研究開発センター（μＳＩＣ））に至る。半導体センサ、マイクロシステム、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ　Ｅｌｅｃｔｒｏ　Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ　Ｓｙｓｔｅｍｓ）の研究に従事
  
  宮口 裕(ミヤグチ ヒロシ)
  １９７９年慶應義塾大学工学研究科電気工学専攻修士課程修了。同年、（株）東芝に入社し、ビデオ機器および関連ＬＳＩの開発。１９８７年日本テキサスインスツルメンツ（株）に入社し、ビデオ信号処理ＤＳＰとそのアプリケーションの開発。２０１１年東北大学マイクロシステム融合研究開発センターにて触覚センサーシステムならびに超並列電子線直接描画装置の開発に従事。２０１７年より東北大学革新的イノベーション研究機構に勤務
  
  小島 明(コジマ アキラ)
  ２００３年東京農工大学工学研究科にて博士（工学）取得。２００７年より２０１３年まで（株）クレステックにて、ナノ結晶シリコン電子源を応用した面電子線露光の研究開発。２０１４年より東北大学マイクロシステム融合研究開発センターにて超並列電子線直接描画装置の開発。２０１７年より（株）カンタム１４に勤務
  
  池上 尚克(イケガミ ナオカツ)
  １９８４年慶応義塾大学工学部電気工学科卒業。１９９８年同大学大学院理工学研究科より博士（工学）。１９８４年～２００９年沖電気工業（株）にてＤＲＡＭ、完全空乏型ＳＯＩデバイス対応プラズマエッチングプロセスの研究開発、量産立ち上げ、および多軸ＭＥＭＳ加速度＋ジャイロセンサの研究開発とその海外市場開拓等に従事。東北大学、東京農工大学を経て２０１４年東北大学マイクロシステム融合研究開発センターで超並列電子線描画装置の開発に従事。２０１７年よりＧｏｅｒｔｅｋ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　Ｊａｐａｎ（株）に勤務
  
  越田 信義(コシダ ノブヨシ)
  １９６６年東北大学工学部電子工学科卒。１９７３年同大学院博士課程修了（工学博士）。日産自動車（株）中央研究所を経て、１９８１年東京農工大学助教授、１９８８年同教授、２００９年同特任教授・名誉教授。この間、米ＭＩＴ客員研究員（１９９２‐１９９３）、仏Ｊ．フーリエグルノーブル大学招聘客員教授（１９９６）、（株）カンタム１４ＣＴＯ（２００３～）。ナノ構造シリコンなどの光電子材料・デバイスに関する研究に従事。米Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｓｏｃｉｅｔｙフェロー（２００６）、応用物理学会フェロー（２００７）

• 出版社からのコメント

  並列電子ビームによる描画の実用化に向けて、アクティブマトリックス超並列電子ビームの実験・開発の成果をまとめる。

• 内容紹介

  並列電子ビームによる描画の実用化に向けて、アクティブマトリックス超並列電子ビームの実験・開発の成果をまとめる。

超並列電子ビーム描画装置の開発―集積回路のディジタルファブリケーションを目指して の商品スペック