令和元年改正意匠法の解説および新たに保護される意匠の実践的活用テクニックの紹介(現代産業選書―知的財産実務シリーズ) [単行本]

令和元年改正意匠法の解説および新たに保護される意匠の実践的活用テクニックの紹介(現代産業選書―知的財産実務シリーズ) の 商品概要

• 目次

  第１章　画像の意匠の保護
  　1 ．1 　画像の意匠の保護の背景
  　1 ．2 　画像の意匠の概要
  　　.　画像の意匠に関する意匠法の条文改正
  　　.　画像を含む意匠について意匠登録を受ける方法
  　　.　新たに保護対象となる画像
  　　.　画像の要件
  　　.　アイコン画像の取扱い
  　　.　建築物の部分としての画像の取扱い
  　　.　画像に関する組物の意匠
  　1 ．3 　画像の意匠の願書および図面等の記載事項
  　　.　「意匠に係る物品」の欄の記載
  　　.　「意匠に係る物品の説明」欄の記載
  　　.　「意匠の説明」欄の記載
  　　.　図面等の記載
  　　.　仮想三次元、仮想現実（いわゆる、Virtual Reality：VR）の画像について
  　　.　物品の部分としての画像を含む意匠を出願するときの留意点
  　　.　画像についての一意匠一出願について
  　1 ．4 　画像意匠の登録要件
  　　.　工業上利用することができる意匠であることについて
  　　.　新規性を有することについて
  　　.　創作非容易性を有すること（容易に創作できたものではないこと）について
  　　.　先願意匠の一部と同一または類似の後願意匠でないことについて
  　1 ．5 　意匠以外の法律による画像デザインの保護
  　　.　特許法による保護について
  　　.　商標法による保護について
  　　.　不正競争防止法による保護について
  　　.　著作権法による保護について
  　1 ．6 　画像の意匠の活用についての実践的テクニック
  　　.　画像を含む意匠の出願方法について
  　　.　既に意匠登録出願を行った物品等の部分としての画像に対する関連意匠制度の活用
  　　.　画像の意匠と出願の変更制度の組み合わせについて
  　1 ．7 　画像の意匠のクリアランス調査の負荷軽減のために
  　　.　意匠法改正によるクリアランス調査の負荷の増大について
  　　.　画像意匠公報検索支援ツール（Graphic Image Park）の活用
  　　.　情報提供窓口の活用
  　　.　タイムスタンプ保管サービスの活用
  　　.　日本意匠分類の改正について
  
  第２章　建築物の意匠の保護
  　2 ．1 　建築物の意匠の保護の背景
  　2 ．2 　建築物の意匠の概要
  　　.　建築物の意匠に関する意匠法の条文改正
  　　.　建築物の要件
  　2 ．3 　建築物の意匠の願書および図面等の記載事項
  　　.　「意匠に係る物品」の欄の記載
  　　.　「意匠に係る物品の説明」欄の記載
  　　.　「意匠の説明」欄の記載
  　　.　図面等の記載
  　　.　建築物についての一意匠一出願について
  　　.　建築物の組物の意匠について
  　2 ．4 　建築物の意匠の登録要件
  　　.　工業上利用することができる意匠であることについて
  　　.　新規性を有することについて
  　　.　創作非容易性を有すること（容易に創作できたものではないこと）について
  　　.　先願意匠の一部と同一または類似の後願意匠でないことについて
  　2 ．5 　意匠以外の法律による建築物の保護
  　　.　商標法による保護について
  　　.　不正競争防止法による保護について
  　　.　著作権法による保護について
  　2 ．6 　建築物の意匠の活用についての実践的テクニック
  　　.　ランドマーク的な建築物について意匠登録出願を行うメリット
  　　.　建築物だけではなく物品も出願する
  　　.　建築物の内部の意匠を権利化するには
  　　.　関連意匠制度を活用した建築物の意匠の権利化
  　　.　建築物の意匠で全国発明表彰や地方発明表彰等の受賞を狙う
  
  第３章　内装の意匠の保護
  　3 ．1 　内装の意匠の保護の背景
  　3 ．2 　内装の意匠の概要
  　　.　内装の意匠に関する意匠法の条文改正
  　　.　内装の要件
  　　.　その他
  　3 ．3 　内装の意匠の願書および図面等の記載事項
  　　.　願書の記載
  　　.　図面等の記載
  　　.　特徴記載書
  　3 ．4 　内装の意匠の登録要件
  　　.　工業上利用することができる意匠であることについて
  　　.　新規性を有すること（意匠法第３条第１項各号）
  　　.　創作非容易性を有すること（意匠法第３条第２項）
  　　.　先願意匠の一部と同一または類似の後願意匠でないこと（意匠法第３条の２）
  　3 ．5 　内装の意匠の活用についての実践的テクニック
  　　.　内装デザインを立体商標登録するための前哨戦
  　　.　特許出願の補完および関連意匠制度の有効利用
  　　.　意匠クリアランス調査に用心を
  
  第４章　関連意匠その他の制度改正について
  　4 ．1 　意匠権の存続期間の変更
  　4 ．2 　関連意匠制度の拡充
  　　.　関連意匠制度の拡充の背景
  　　.　関連意匠制度の拡充の詳細
  　4 ．3 　組物の意匠
  　　.　組物の意匠に関する保護対象の拡大
  　　.　組物の部分意匠の登録可能化
  　4 ．4 　改正された関連意匠、組物の意匠を活用した実践的テクニック
  　　.　最初の本意匠（基礎意匠）の創作単位に留意
  　　.　クラスター戦略・ステルス戦略の極意
  　　.　創作容易な構成要素からなる組物の意匠
  　4 ．5 　創作非容易性水準の明確化
  　4 ．6 　出願手続きの簡素化
  　　.　複数の意匠を一括して出願できる制度の導入
  　　.　出願の際に基準とする物品の区分の廃止
  　4 ．7 　間接侵害規定の拡充
  
  第５章　外国意匠制度の紹介
  　5 ．1 　各国の意匠制度の比較
  　　.　各国の意匠制度
  　　.　図面の要件
  　5 ．2 　各国における建築物の意匠：透視投影図法の事例
  　　.　日本における透視投影図法の事例
  　　.　各国における透視投影図法の事例
  　　.　外国を意識した図面とは
  　5 ．3　各国における画像の意匠
  　　.　Apple vs Samsung
  　　.　各国における画像の意匠の事例
  　　.　各国における画像の意匠まとめ
  　5 ．4 　意匠と商標／特許の組み合わせ
  　　.　意匠権と商標権
  　　.　意匠権と特許権
  　5 ．5 　ハーグ協定
  　　.　概要
  　　.　ロカルノ分類
  　　.　外国出願の際の留意点
  　5 ．6 　外国意匠の活用についての実践的テクニック
  　　.　米国での複数意匠一出願の考慮事項：意匠にも禁反言が適用される
  　　.　欧州共同体意匠制度のメリット／デメリット
  　　.　中国での実質的に画像のみの意匠について

• 内容紹介

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  意匠法の大幅な改正後の意匠登録出願の審査のポイントを詳述！
  企業が事業に役立てるための意匠活用の実践的テクニックも紹介
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  　近年、産業におけるデザインの重要性が高まっております。2018年５月には、経済産業省と特許庁はデザインによる日本企業の競争力強化に向けた課題を整理し、「デザイン経営宣言」という報告書を取りまとめました。この報告書ではデザイン経営の推進のため５つの切り口の政策提言を行っているが、その中の一つに意匠法の改正により保護の対象を拡大したり意匠権取得の手続きを改善したりすることが挙げられております。このような背景のもと、2019年５月には特許法等の一部を改正する法律が成立し、意匠法の大幅な改正が行われました。そして、本改正は一部を除き2020年４月１日より施行されました。
  
  　本書の特徴としては、意匠法の条文の改正のみならず、各回の意匠審査基準ワーキンググループで行われた議論の内容も踏まえた上で今回の法改正後の意匠登録出願の審査において気を付けなければいけないことを詳述していることです。また、意匠法改正により企業にとってビジネス上どのような影響があるかを検討し、各章において企業の事業に役立つ意匠の活用の実践的テクニックを紹介しております。
  
  図書館選書
  2020年４月１日より施行された意匠法の大幅な改正後の意匠登録出願の審査のポイントを詳述。意匠法改正により企業にとってビジネス上どのような影響があるかを検討し事業に役立つ意匠の活用の実践的テクニックも紹介。

• 著者紹介（「BOOK著者紹介情報」より）（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）

  加島 広基(カシマ ヒロモト)
  マクスウェル国際特許事務所パートナー弁理士。１９７６年兵庫県神戸市生まれ。１９９９年に東京大学工学部都市工学科卒業後、株式会社クボタに入社。在職中は基礎工学研究に従事する。その後特許事務所に転職し、２０１２年にマクスウェル国際特許事務所を開設。機械分野およびソフトウェア分野全般の特許、意匠、商標、その他知的財産に関する各種サービスを取り扱う。大手電機メーカーのデザイン部署に招かれてデザインを保護するための知財戦略をテーマに講演をするなど、デザイン成果をどのようにして意匠のみならず特許や商標など他の知的財産制度と組み合わせて保護すべきなのかに明るい
  
  押谷 昌宗(オシタニ マサムネ)
  特許業務法人ＩＰＸ代表弁理士ＣＥＯ。１９８５年大阪府吹田市生まれ。２０１１年に大阪大学基礎工学部電子物理科学科卒業後、富士ゼロックス株式会社に入社。知的財産部に配属され、在職中は発明の権利化、調査、他社特許対応、交渉、知財戦略の提案などに幅広く従事する。その後特許事務所に転職し、２０１８年に特許業務法人ＩＰＸを開設。ソフトウェア関連発明に強みを持ち、積極的なベンチャー支援活動が評価され、第１回「ＩＰ　ＢＡＳＥ　ＡＷＡＲＤ」奨励賞・“知財専門家部門”（２０２０）を受賞

• 著者について

  加島　広基 (カシマヒロモト)
  弁理士　加島　広基
  1976年兵庫県神戸市生まれ。1999年に東京大学工学部都市工学科卒業後、株式会社クボタに入社。在職中は基礎工学研究に従事する。その後特許事務所に転職し、2012年にマクスウェル国際特許事務所を開設。機械分野およびソフトウェア分野全般の知的財産に関する各種サービスを取り扱う。大手電機メーカーのデザイン部署に招かれてデザイン保護に関する知財戦略について講演をするなど、意匠を含む他の知的財産制度と組み合わせてデザインを保護する手法に明るい。デザインを機能面から捉えて特許出願に近い形での意匠出願戦術をどう組み立てるかなどの意匠実務研究を積み重ねてきた。また、「特許の鉄人」クレーム作成タイムバトルやYouTubeによるオンラインセミナーを主宰するなど知財業界に新たな旋風を仕掛けている。
  
  押谷　昌宗 (オシタニマサムネ)
  弁理士　押谷　昌宗
  1985年大阪府吹田市生まれ。2011年に大阪大学基礎工学部電子物理科学科卒業後、富士ゼロックス株式会社に入社。知的財産部に配属され、在職中は発明の権利化、調査、他者特許対応、交渉、知財戦略の提案などに幅広く従事する。その後特許事務所に転職し、2018年に特許業務法人IPXを開設。積極的なベンチャー支援活動が評価され、第1回「IP BASE AWARD」奨励賞・【知財専門家部門】（2020）を受賞。Apple v. Samsung米国知財訴訟の分析をするなど、外国の知財ミックス制度についても明るい。また、加島広基弁理士とともにYouTubeにて知財関連の情報を配信する「知財実務オンライン」を運営している。

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