次世代パワー半導体の開発動向と応用展開(エレクトロニクスシリーズ) [単行本]
    • 次世代パワー半導体の開発動向と応用展開(エレクトロニクスシリーズ) [単行本]

    • ¥73,7002,211 ゴールドポイント(3%還元)
    • お取り寄せ
100000009003470520

次世代パワー半導体の開発動向と応用展開(エレクトロニクスシリーズ) [単行本]

価格:¥73,700(税込)
ゴールドポイント:2,211 ゴールドポイント(3%還元)(¥2,211相当)
お届け日:お取り寄せこの商品は、日時を指定できません。届け先変更]詳しくはこちら
出版社:シーエムシー出版
販売開始日: 2021/08/31
お取り扱い: のお取り扱い商品です。
ご確認事項:返品不可
店舗受け取りが可能です
マルチメディアAkibaマルチメディア梅田マルチメディア博多にて24時間営業時間外でもお受け取りいただけるようになりました

次世代パワー半導体の開発動向と応用展開(エレクトロニクスシリーズ) の 商品概要

  • 目次

    第1章 概論
    1 パワー半導体の現状・課題・展望
    1. 1 パワーエレクトロニクス/パワー半導体技術進展への期待
    1. 2 シリコンパワー半導体の進展
    1. 3 SiCパワー半導体最新技術と課題
    1. 4 GaNパワー半導体最新技術と課題
    1. 5 まとめ
    2 パワーエレクトロニクス装置の要求トレンドとパワーデバイス技術動向
    2. 1 はじめに
    2. 2 パワーデバイスの市場動向と製品適用
    2. 3 基盤としてのデバイス技術
    2. 3. 1 IGBT
    2. 3. 2 RC-IGBT
    2. 3. 3 SiC-MOSFET
    2. 4 パワエレ装置の要求トレンドとパワーデバイス技術動向
    2. 4. 1 モータドライブ
    2. 4. 2 再生可能エネルギー
    2. 4. 3 電動車(xEV)インバータ
    2. 4. 4 電鉄インバータ
    2. 5 あとがき

    第2章 材料特性と開発
    1 SiC半導体
    1. 1 はじめに
    1. 2 SiCの材料物性
    1. 3 SiCのバルク結晶成長
    1. 4 SiCのエピタキシャル成長
    1. 5 デバイスプロセス技術
    2 GaN半導体
    2. 1 はじめに
    2. 2 GaNの物性
    2. 3 GaNの電気特性
    2. 4 ヘテロ接合
    2. 5 結晶成長方法および基板
    2. 6 Mgイオン注入によるp型GaNの形成
    2. 7 まとめ
    3 酸化ガリウム材料・デバイス開発
    3. 1 はじめに
    3. 2 Ga2O3の物性
    3. 3 Ga2O3単結晶バルク融液成長技術
    3. 4 Ga2O3薄膜エピタキシャル成長技術
    3. 5 Ga2O3ショットキーバリアダイオード開発の動向
    3. 6 Ga2O3トランジスタ開発の動向
    3. 6. 1 横型FET
    3. 6.2 縦型FET
    3. 7 おわりに
    4 ダイヤモンド半導体
    4. 1 パワー半導体としての物性
    4. 2 ウェハ開発
    4. 2. 1 大面積化
    4. 2. 2 基板の転位
    4. 3 ドーピング
    4. 3. 1 p型
    4. 3. 2 n型

    第3章 パワー半導体実装へ向けた技術・考え方
    1 パワーモジュールのための接合技術
    1. 1 はじめに
    1. 2 WBGパワー半導体の接合
    1. 3 焼結接合
    1. 4 Ag焼結接合
    1. 5 Agの低温焼結への溶剤の効果
    1. 6 Cu焼結接合
    1. 7 これから
    2 小形表面実装部品のための基板放熱の活用
    2. 1 はじめに
    2. 2 電子機器の小形化と熱問題
    2. 2. 1 電子部品の小形化・高熱流束化
    2. 2. 2 基板放熱の重要性
    2. 3 基板熱設計の指針
    2. 4 基板パターンの熱抵抗と簡易算出手法
    2. 4. 1 放熱パターンの熱抵抗
    2. 4. 2 Leeの式を応用した基板熱抵抗の算出
    2. 4. 3 修正Leeの式の妥当性と適用範囲
    2. 5 まとめ
    3 システム価値を高める接合技術
    3. 1 はじめに
    3. 2 ミッションプロファイルベースアプリケーション価値
    3. 3 Si-IGBT用の高信頼性ハンダ
    3. 4 SiC-MOS-FET用の高温接合材料
    3. 4. 1 超塑性(SP:Superplastic)ハンダ
    3. 4. 2 Cuシンタリング
    4 過渡の振る舞いが高精度な“熱抵抗・熱容量”素子モデル
    4. 1 はじめに
    4. 2 DNRCモデルとDSRCモデル
    4. 2. 1 伝熱設計でTJを求める際の課題
    4. 2. 2 DNRCモデル
    4. 2. 3 DSRCモデル
    4. 2. 4 DNRCモデルとDSRCモデル活用の嬉しさ
    4. 3 モデルの活用例
    4. 4 おわりに
    5 次世代パワー半導体材料基板の超精密加工技術
    5. 1 はじめに
    5. 2 基板加工プロセス
    5. 2. 1 スライスおよび粗研削
    5. 2. 2 両面ラッピング
    5. 2. 3 精密機械研磨
    5. 2. 4 化学機械研磨(CMP)
    5. 2. 5 その他
    5. 3 終わりに
    6 次世代パワーデバイスを用いた電力変換器のための回路方式と考え方
    6. 1 電圧形変換回路の動作
    6. 2 SiC-SBDの採用によるターンオン損失の低減
    6. 3 SiC-MOSFETのボディダイオード通電回避
    6. 4 超高周波化の実現のためのゼロ電圧ターンオン技術
    7 SiCパワーデバイスの社会実装に向けた実装技術
    7. 1 はじめに
    7. 2 ハイブリッド電動航空機に向けて,重量・効率に関する試検討
    7. 3 高速スイッチングを容易に利用できるようにするための技術開発
    7. 4 今後の展望

    第4章 デバイス技術・開発
    1 低損失・高信頼なSiCパワーMOSFETの開発
    2 ダイヤモンド半導体のデバイスプロセスと反転層チャネルMOSFET
    2. 1 はじめに
    2. 2 ダイヤモンド表面制御プロセス
    2. 3 ダイヤモンド反転層チャネルMOSFETの現状
    2. 4 ダイヤモンド反転層チャネルMOSFETの課題
    2. 4. 1 界面準位
    2. 4. 2 ダイヤモンドエッチングプロセス
    2. 5 まとめと今後の展望
    3 ダイヤモンド放熱を利用したGaN HEMTの性能向上
    3. 1 はじめに
    3. 2 GaN HEMTの放熱技術とダイヤモンドの適用
    3. 3 GaN HEMT上面へのダイヤモンド適用
    3. 4 GaN HEMT下面へのダイヤモンド適用
    3. 5 今後の展望
    4 All-SiCパワーモジュールの性能を引き出すゲートドライバーモジュール
    4. 1 はじめに
    4. 2 ゲートドライバー概要
    4. 2. 1 ゲートドライバーの内部構成
    4. 2. 2 ゲートドライバーの仕様
    4. 3 All-SiCパワーモジュールの特徴
    4. 4 All-SiCパワーモジュールの駆動事例
    4. 4. 1 短絡耐量に対応した駆動事例
    4. 4. 2 閾値電圧VGS(th)に対応した駆動事例
    4. 4. 3 オン抵抗による損失低減とゲート電圧の安定性を両立させる駆動事例
    4. 4. 4 高いdv/dtに対応した駆動事例
    4. 5 まとめ
    5 SiCパワーデバイスを搭載した電力変換モジュール開発の取り組みと製品への搭載事例
    5. 1 はじめに
    5. 2 スーパークラスタープログラム
    5. 2. 1 非絶縁型DC/DCコンバータの開発
    5. 2. 2 非絶縁型AC/DCコンバータの開発
    5. 2. 3 課題
    5. 3 クリーンデバイス社会実装推進事業
    5. 3. 1 超小型電力変換モジュール開発背景
    5. 3. 2 超小型電力変換モジュール仕様と評価結果
    5. 4 超小型電力変換モジュールの製品採用
    5. 5 今後の展開

    第5章 評価・標準化
    1 次世代パワー半導体素子開発を支える分析・評価技術
    1. 1 はじめに
    1. 2 二次イオン質量分析法(SIMS)を用いた不純物分析
    1. 3 走査透過型電子顕微鏡(STEM)を用いたp-n接合界面評価
    1. 4 カソードルミネッセンス(CL)法を用いた欠陥評価
    2 SiCウェハ品質検査技術と国際標準化
    2. 1 はじめに
    2. 2 SiCウェハ品質検査技術開発
    2. 2. 1 SiCエピ欠陥の非破壊検査技術開発
    2. 2. 2 光学検査手法,PL法,XRT法を使用した3チャンネルSiCウェハ欠陥検査技術開発
    2. 2. 3 SiCバルクウェハ品質の非破壊検査技術開発
    2. 3 SiCパワー半導体技術分野に関する国際標準化
    2. 3. 1 SiCエピ欠陥の非破壊検査法に関する国際標準規格
    2. 3. 2 SiCパワー半導体デバイス信頼性試験法に関する国際標準化
    2. 4 まとめ

    第6章 モビリティへの展開
    1 移動応用に向けたパワーエレクトロニクス技術動向とその高電力密度化技術
    1. 1 はじめに
    1. 2 移動体パワーエレクトロニクス機器の技術動向とパワエレ技術
    1. 2. 1 車載応用の動向
    1. 2. 2 航空機応用の動向
    1. 3 高周波駆動による電力変換回路の高電力密度化とその課題
    1. 3. 1 パワー半導体の高周波駆動と磁気素子のサイズの関係
    1. 3. 2 高周波駆動による体格低減効果と発熱実測結果
    1. 4 おわりに
    2 xEV向け高温高出力密度パワー半導体モジュール
    2. 1 背景
    2. 2 日立パワーデバイスの取り組み
    2. 3 サイドゲートIGBTによる低損失化
    2. 4 SnCu系高耐熱はんだによるパッケージ信頼性向上
    2. 5 おわりに
    3 電気駆動車用パワー半導体のパッケージ技術
    3. 1 はじめに
    3. 2 自動車を取り巻く環境
    3. 2. 1 気候変動枠組条約をめぐる動き
    3. 2. 2 電動化の動きと電気駆動車の構成
    3. 3 電気駆動車用パワー半導体モジュールの特徴
    3. 3. 1 パワー半導体モジュール構造の変遷
    3. 3. 2 電気駆動車用パワー半導体モジュールの構造
    3. 3. 3 電気駆動車用パワー半導体モジュールの冷却構造
    3. 4 直接水冷構造用冷却器設計
    3. 4. 1 冷却性能の原理(対流熱伝達)
    3. 4. 2 冷却器の高放熱化
    3. 5 直接水冷構造の課題
    3. 5. 1 接合部信頼性
    3. 5. 2 耐腐食信頼性
    3. 6 おわりに
    4 車載エレクトロニクス用高耐熱,高放熱実装材料の設計と評価
    4. 1 はじめに
    4. 2 パワーデバイスモジュールの技術動向と実装材料
    4. 3 パワーモジュール実装材料評価用プラットフォームと材料設計
    4. 4 封止樹脂の開発
    4. 5 プラットフォームによる実装材料評価
    4. 5. 1 大面積SiCパワーチップによる高耐熱実装材評価
    4. 5. 2 各種実装材料に特化した評価の課題
    4. 6 これまでの結果と進展状況
    5 電動化航空機とパワーエレクトロニクスの展望
    5. 1 航空機の電気化および電動航空機の開発状況
    5. 2 電気・電動化航空器の電力変換器
    5. 2. 1 装備品用電力変換器
    5. 2. 2 推進FAN駆動用電力変換器
    5. 3 グリッドシステムの信頼性と半導体遮断器
    5. 4 電力変換器の信頼性とパワー半導体

    第7章 5Gなどの通信への展開および気象観測などレーダへの展開
    1 無線通信用GaN HEMTデバイス
    1. 1 はじめに
    1. 2 GaN HEMT技術
    1. 2. 1 材料物性
    1. 2. 2 GaN HEMTの構造と基本特性
    1. 3 携帯電話基地局用GaN HEMT増幅器
    1. 4 基地局間通信用GaN HEMT
    1. 5 衛星通信地球局用GaN HEMT
    1. 6 衛星搭載用GaN HEMT
    1. 7 レーダー用GaN HEMT
    1. 8 まとめ
    2 5G基地局用GaN増幅器モジュールの小型・高効率化技術
    2. 1 はじめに
    2. 2 サブ6基地局高出力増幅器技術動向
    2. 3 ミリ波における基地局増幅器技術動向
    2. 4 まとめ
    3 高速通信機器用パワーデバイスのパッケージング技術と課題
    3. 1 はじめに
    3. 2 パワーデバイス
    3. 2. 1 機能
    3. 2. 2 種類
    3. 2. 3 用途
    3. 2. 4 開発動向
    3. 2. 5 注目分野
    3. 3 高速通信用途
    3. 3. 1 高速通信
    3. 3. 2 高速通信用パワーデバイス
    3. 4 パワー半導体の封止技術
    3. 4. 1 封止方法
    3. 4. 2 封止材料
    3. 5 パワー半導体用封止材料の課題
    3. 5. 1 発熱対策
    3. 6 パワーモジュール用回路材料の課題
    3. 6. 1 回路材料の低誘電化
    3. 7 新規パワーデバイス用材料の開発
    3. 7. 1 パワー半導体用封止材料
    3. 7. 2 パワーモジュール用回路材料
    3. 8 おわりに
    4 GaN HEMTsを用いたフェーズドアレイ気象レーダ
    4. 1 はじめに
    4. 2 気象レーダのフェーズドアレイ化による観測の高速高密度化
    4. 3 マルチパラメータ化による降水観測精度向上と多要素観測
    4. 4 固体化送信機
    4. 5 マイクロ波半導体
    4. 6 まとめ

    第8章 エネルギーへの展開
    1 次世代パワー半導体デバイスとワイヤレス給電への応用展望
    1. 1 はじめに
    1. 2 結合型ワイヤレス給電のための次世代パワー半導体
    1. 3 結合型ワイヤレス給電のための次世代パワー半導体―送電回路用FET―
    1. 4 結合型ワイヤレス給電のための次世代パワー半導体―受電回路用ダイオード―
    1. 5 おわりに
    2 電気エネルギーシステムの小型化・低消費電力化に貢献するパワーモジュールの開発
    2. 1 要旨
    2. 2 パワーモジュールを取り巻く市場環境とパワーモジュールへの要望
    2. 3 パワーモジュールの開発
    2. 3. 1 概要
    2. 3. 2 パワーチップ技術
    2. 3. 3 パッケージ技術
    2. 3. 4 パワーモジュール開発に関わるその他の主な取り組み
    2. 4 むすび
  • 内容紹介

    最新パワー半導体を軸に,デバイス設計,プロセス,高耐熱実装技術,評価・標準化などを詳細に紹介。車載機器や5G通信機器応用に加え電動航空機や気象観測レーダへの展開といった新規分野への展望まで詳しく解説。

次世代パワー半導体の開発動向と応用展開(エレクトロニクスシリーズ) の商品スペック

商品仕様
出版社名:シーエムシー出版
著者名:岩室 憲幸(監修)
発行年月日:2021/08/31
ISBN-10:4781316131
ISBN-13:9784781316130
判型:B5
発売社名:シーエムシー出版
対象:専門
発行形態:単行本
内容:電気
言語:日本語
ページ数:314ページ
縦:26cm
他のシーエムシー出版の書籍を探す

    シーエムシー出版 次世代パワー半導体の開発動向と応用展開(エレクトロニクスシリーズ) [単行本] に関するレビューとQ&A

    商品に関するご意見やご感想、購入者への質問をお待ちしています!